| 不连续Co/SiO_2多层膜的结构及其输运性质的研究 |
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| 引用本文： | 葛世慧,刘春明,寇晓明,姜丽仙,李斌生,李成贤.不连续Co/SiO_2多层膜的结构及其输运性质的研究[J].物理学报,2004,53(10). |
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| 作者姓名： | 葛世慧 刘春明 寇晓明 姜丽仙 李斌生 李成贤 |
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| 作者单位： | 兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室,兰州,730000 |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射方法制备了系列Co SiO_2 不连续磁性金属绝缘体多层膜 (DMIM) .经研究发现 :对 SiO_2 (2 4nm) Co(t) ]2 0 体系 ,在Co层厚度小于 2 5nm时 ,Co层由连续变为不连续 ;Co层不连续时 ,其导电机理为热激发的电子隧穿导电 ,lnR与T- 1 2 接近正比关系 ;隧道磁电阻 (TMR)在Co层厚度为 1 4nm时出现极大值 - 3% .DMIM的性质不仅与磁性金属层厚度密切相关 ,而且与绝缘层厚度有密切的关系 .在固定Co层厚度为 1 9nm的情况下 ,研究了TMR随SiO_2 层厚度的变化关系 ,并给出定性的解释 .对 SiO_2 (2 4nm) Co(2 0nm) ]2 0 的样品研究了TMR随温度的变化关系 ,发现TMR随温度的变化有一极大值 ,结合Helman的理论 (Phys.Rev .Lett,37,14 2 9(1976 ) ) ,认为是颗粒之间存在磁性耦合的结果
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| 关 键 词： | 不连续磁性金属绝缘体多层膜 隧道磁电阻效应 |
Study on the structure and transport properties ofdiscontinuous Co/SiO_(2) multilayers |
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| Ge Shi_Hui\ Liu Chun_Ming\,Kou Xiao_Ming\,Jiang Li_Xian\,Li Bin_Sheng\,Li Cheng_Xian.Study on the structure and transport properties ofdiscontinuous Co/SiO_(2) multilayers[J].Acta Physica Sinica,2004,53(10). |
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| Authors: | Ge Shi_Hui\ Liu Chun_Ming\ Kou Xiao_Ming\ Jiang Li_Xian\ Li Bin_Sheng\ Li Cheng_Xian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | discontinuous magnetic metal/insulator multilayers tunneling magnetoresistance effect |
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