| 金刚石的射频喷射等离子体化学气相沉积及其Ni-N掺杂的研究 |
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| 引用本文： | 石彦超,李彬,李佳君,左勇刚,白旸,刘浩,孙占峰,马殿理,陈广超.金刚石的射频喷射等离子体化学气相沉积及其Ni-N掺杂的研究[J].人工晶体学报,2015,44(10):2670-2678. |
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| 作者姓名： | 石彦超 李彬 李佳君 左勇刚 白旸 刘浩 孙占峰 马殿理 陈广超 |
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| 作者单位： | 中国科学院大学材料科学与光电技术学院,北京100049;电子显微技术联合实验室,北京101408;北京科技大学冶金与生态学院,北京,100083;电子显微技术联合实验室,北京101408;北京中科科仪有限公司,北京100190 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51272281);中科院百人计划和中科院装备研制项目(yz201356) |
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| 摘 要： | 对自行设计的RF喷射等离子体增强化学气相沉积系统(RF plasma jet CVD)进行了电子温度和电子密度的模拟计算分析.在优化的参数下进行了金刚石膜体的制备,并应用光发射谱技术(OES)在线分析了等离子体的成分.通过Raman、XRD和SEM分析了沉积样品的成分、晶体结构和形貌.通过在反应气体中加入NH3,并利用载气技术将含有Ni元素的金属有机物引入到沉积区,进行了Ni、N共掺杂沉积.利用XPS以及PL谱分析了掺杂样品的化学价键和光致发光特性,结果发现Ni-N价键的存在以及在800 nm附近的光发射峰.
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 射频喷射等离子体 金刚石 Ni-N掺杂 |
Deposition of Diamond by RF Plasma Jet CVD and Doping of Ni-N Complex |
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