| 气相辅助电沉积法低温制备CH3NH3PbI3钙钛矿薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 涂丽敏,郭巧能,江亚晓,李海涛,李少华,李文标,潘玲,陈永生,杨仕娥.气相辅助电沉积法低温制备CH3NH3PbI3钙钛矿薄膜的研究[J].人工晶体学报,2018,47(2):302-307. |
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| 作者姓名： | 涂丽敏 郭巧能 江亚晓 李海涛 李少华 李文标 潘玲 陈永生 杨仕娥 |
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| 作者单位： | 郑州大学物理工程学院,材料物理教育部重点实验室,郑州450052 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(11372283,61574129);河南省基础与前沿计划项目(152300410035) |
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| 摘 要： | 采用低成本的气相辅助电沉积方法(vapor-assisted electro-deposition,VAED)成功制备了面积为15 cm2均匀致密的钙钛矿薄膜.首先通过电化学沉积制备PbO2薄膜,然后与HI气体反应得到PbI2薄膜,接下来再与HI和CH3NH2混合气体反应,得到CH3NH3PbI3薄膜.实验发现:电化学沉积电压对PbO2薄膜的表面形貌和微结构有重要影响;在PbO2向PbI2的转化过程中,随着反应时间的减小,PbI2的结晶性逐渐增强,最佳反应时间为10 min;在钙钛矿的转化过程中,当HI/CH3NH2体积比为1:2时可获得均匀致密、四方相的钙钛矿薄膜.本研究提供了一种低温制备大面积均匀CH3NH3PbI3薄膜的方法,得到的CH3NH3PbI3薄膜可望在光电器件中得到应用.
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| 关 键 词： | CH3NH3PbI3薄膜 气相辅助电沉积法 低温 大面积 |
Preparation of Perovskite CH3NH3PbI3Thin Films By Vapor-Assisted Electro-deposition at Low Temperature |
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| TU Li-min,GUO Qiao-neng,JIANG Ya-xiao,LI Hai-tao,LI Shao-hua,LI Wen-biao,PAN Ling,CHEN Yong-sheng,YANG Shi-e.Preparation of Perovskite CH3NH3PbI3Thin Films By Vapor-Assisted Electro-deposition at Low Temperature[J].Journal of Synthetic Crystals,2018,47(2):302-307. |
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| Authors: | TU Li-min GUO Qiao-neng JIANG Ya-xiao LI Hai-tao LI Shao-hua LI Wen-biao PAN Ling CHEN Yong-sheng YANG Shi-e |
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