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Er3+注入CdTe薄膜的结构和光电性能研究
引用本文:侯娟,郑毓峰,董有忠,匡代洪,孙言飞,李强.Er3+注入CdTe薄膜的结构和光电性能研究[J].物理学报,2006,55(12).
作者姓名:侯娟  郑毓峰  董有忠  匡代洪  孙言飞  李强
摘    要:采用离子注入技术对近距离升华制备的CdTe薄膜进行Er3+掺杂研究.讨论了不同掺Er3+浓度对CdTe薄膜的结构和光电性能的影响.利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外-可见分光光度计、霍耳效应测试系统和复阻抗分析仪对样品进行测试.结果表明,适当的掺杂量可以改善CdTe薄膜的结晶性能,降低晶界势垒高度,提高其导电性能.在一定掺杂范围内掺Er3+对CdTe薄膜的光能隙影响不大.

关 键 词:CdTe薄膜  离子注入  晶界势垒  光能隙

Investigation on the crystal structure, optical and electrical properties of Er3+ implanted CdTe thin film
Hou Juan,Zheng Yu-Feng,Dong You-Zhong,Kuang Dai-Hong,Sun Yan-Fei,Li Qiang.Investigation on the crystal structure, optical and electrical properties of Er3+ implanted CdTe thin film[J].Acta Physica Sinica,2006,55(12).
Authors:Hou Juan  Zheng Yu-Feng  Dong You-Zhong  Kuang Dai-Hong  Sun Yan-Fei  Li Qiang
Abstract:
Keywords:
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