| 1 064 nm激光对氧化铟锡薄膜的损伤研究 |
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| 引用本文： | 李阳龙, 王伟平, 骆永全, 王海峰, 张大勇. 1 064 nm激光对氧化铟锡薄膜的损伤研究[J]. 高压物理学报, 2012, 26(1): 107-112. doi: 10.11858/gywlxb.2012.01.016 |
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| 作者姓名： | 李阳龙 王伟平 骆永全 王海峰 张大勇 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院流体物理研究所,四川绵阳 621900 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院科学技术基金重点项目(2007A01003) |
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| 摘 要： | 液晶光学器件在激光光束精密控制上具有重要应用前景,氧化铟锡（ITO）薄膜作为液晶光学器件的透明导电电极,是液晶器件激光损伤的薄弱环节。为此,建立了ITO薄膜激光热损伤物理模型。理论计算结果表明：1 064 nm激光对ITO薄膜的损伤主要为热应力损伤;连续激光辐照下,薄膜损伤始于靠近界面的玻璃基底内;脉冲激光辐照下,温升主要发生在光斑范围内的膜层,薄膜损伤从表面开始。利用泵浦探测技术,研究了ITO薄膜的损伤情况,测量了不同功率密度激光辐照后薄膜的方块电阻,结合1-on-1法测定了ITO薄膜的50%损伤几率阈值。实验结果表明：薄膜越厚,方块电阻越小,激光损伤阈值越低;薄膜未完全损伤前,方块电阻随激光功率密度的增加而增大。理论计算与实验结果吻合较好。设计液晶光学器件中的ITO薄膜电极厚度时,应综合考虑激光损伤、透光率及薄膜电阻的影响。
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| 关 键 词： | 激光辐照 液晶光学器件 损伤阈值 氧化铟锡薄膜 |
| 收稿时间： | 2010-04-11 |
| 修稿时间： | 2010-12-20 |
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