| Eu3+,Tb3+掺杂对RF磁控溅射ZnO薄膜结构的影响 |
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| 引用本文： | 郭冠军,罗莉,戴强钦,黄方映,姚丽丽,董国帅.Eu3+,Tb3+掺杂对RF磁控溅射ZnO薄膜结构的影响[J].人工晶体学报,2011,40(6). |
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| 作者姓名： | 郭冠军 罗莉 戴强钦 黄方映 姚丽丽 董国帅 |
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| 作者单位： | 广东工业大学物理与光电工程学院,广州,510006 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(A040410,10774031)资助项目 |
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| 摘 要： | 利用RF磁控溅射技术,不同条件下在不同衬底上制备了纯ZnO及Eu3+,Tb3+共掺ZnO薄膜.研究了薄膜的衬底、沉积时间和衬底温度对ZnO薄膜结构及形貌的影响.使用X射线衍射仪(XRD)对样品的结构进行了表征,结果表明:玻璃和石英衬底上的薄膜分别在300℃、镀膜0.5h和常温下、镀膜lh时薄膜具有良好的c轴择优取向,单品质量较好；而硅衬底上的薄膜在300℃、镀膜lh时具有良好的(103)轴择优取向,单品质量略有降低.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 ZnO薄膜 溅射时间 衬底温度 |
Influence of Eu~(3+),Tb~(3+) Co-doping on ZnO Films by RF Magnetron Sputtering |
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| GUO Guan-jun
,
LUO Li
,
DAI Qiang-qin
,
HUANG Fang-ying
,
YAO Li-li
,
DONG Guo-shai.Influence of Eu~(3+),Tb~(3+) Co-doping on ZnO Films by RF Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(6). |
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| Authors: | GUO Guan-jun LUO Li DAI Qiang-qin HUANG Fang-ying YAO Li-li DONG Guo-shai |
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| Affiliation: | GUO Guan-jun,LUO Li,DAI Qiang-qin,HUANG Fang-ying,YAO Li-li,DONG Guo-shai (School of Physics & Optoelectronic Engineering,Guangdong University of Technology,Guangzhou 510006,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering ZnO film sputtering time substrate temperature |
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