| 反应溅射VN/SiO2纳米多层膜的微结构与力学性能 |
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| 引用本文： | 岳建岭,孔明,赵文济,李戈扬. 反应溅射VN/SiO2纳米多层膜的微结构与力学性能[J]. 物理学报, 2007, 56(3) |
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| 作者姓名： | 岳建岭 孔明 赵文济 李戈扬 |
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| 摘 要： | 采用 V 和 SiO2 靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同 SiO2 和 VN 调制层厚的 VN/SiO2 纳米多层膜.利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能.结果表明:在Ar,N2混和气体中,射频反应溅射的SiO2薄膜不会渗氮.单层膜时以非晶态存在的SiO2,当其厚度小于1 nm时,在多层膜中因VN晶体层的模板效应被强制晶化,并与VN层形成共格外延生长.相应地,多层膜的硬度得到明显提高,最高硬度达34 GPa.随SiO2层厚度的进一步增加,SiO2层逐渐转变为非晶态,破坏了与VN层的共格外延生长结构,多层膜硬度也随之降低.VN调制层的改变对多层膜的生长结构和力学性能也有影响,但并不明显.
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| 关 键 词： | VN/SiO2纳米多层膜 共格外延生长 非晶晶化 超硬效应 |
Microstructure and mechanical properties of VN/SiO2 nanomultilayers synthesized by reactive sputtering |
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| Yue Jian-Ling,Kong Ming,Zhao Wen-Ji,Li Ge-Yang. Microstructure and mechanical properties of VN/SiO2 nanomultilayers synthesized by reactive sputtering[J]. Acta Physica Sinica, 2007, 56(3) |
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| Authors: | Yue Jian-Ling Kong Ming Zhao Wen-Ji Li Ge-Yang |
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