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Yb:YAG晶体的生长缺陷及位错走向
引用本文:场培志,邓佩珍,等.Yb:YAG晶体的生长缺陷及位错走向[J].人工晶体学报,2000,29(4):399-403.
作者姓名:场培志  邓佩珍
作者单位:[1]中国科学院无机功能材料开放实验室中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 [2]200050
摘    要:用同步辐射透射白光形貌和应力双折射法研究了沿(111)方向生长的Yb:YAG晶体的生长缺陷、晶体中的位错起源和走向。Yb:YAG晶体中的生长缺陷主要有:生长条纹、核心和位错等。晶体中的位错主要起源于籽晶、杂质粒子以及生长初期的晶种和固液界面处位错成核。位错的走向垂直于生长界面,符合能量最低原理。采用凸界面生长工艺可以有效的消除晶体中的位错。

关 键 词:Yb:YAG晶体  晶体生长缺陷  同步辐射形貌相  位错走向
修稿时间:2000-05-28

Study on Growth Defects and Dislocation Propagation in Yb
Abstract:
Keywords:
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