一种新颖的磁控溅射纯Cr薄膜结构区域模型

人工晶体学报 ›› 2011, Vol. 40 ›› Issue (4): 1071-1075.

一种新颖的磁控溅射纯Cr薄膜结构区域模型

李洪涛;蒋百灵;杨波;曹政

西安理工大学材料科学与工程学院,西安,710048

出版日期:2011-08-15 发布日期:2021-01-20

A Novel Structure Zone Model of Pure Cr Films Relating to the Magnetron Sputtering System

LI Hong-tao;JIANG Bai-ling;YANG Bo;CAO Zheng

Online:2011-08-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 磁控溅射成膜过程中,基于溅射中性原子对基片表面微区的轰击效应Ec11和各种轰击离子对基片微区表面的轰击效应Ec22两个能量因子建立了磁控溅射纯Cr薄膜的结构区域模型,研究发现磁控溅射系统中较高的离子流密度显著影响着薄膜的微观结构,且可在较低的相对温度下促进完全致密薄膜结构的形成.

中图分类号:

TK124

李洪涛;蒋百灵;杨波;曹政. 一种新颖的磁控溅射纯Cr薄膜结构区域模型[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(4): 1071-1075.

LI Hong-tao;JIANG Bai-ling;YANG Bo;CAO Zheng. A Novel Structure Zone Model of Pure Cr Films Relating to the Magnetron Sputtering System[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2011, 40(4): 1071-1075.

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一种新颖的磁控溅射纯Cr薄膜结构区域模型

A Novel Structure Zone Model of Pure Cr Films Relating to the Magnetron Sputtering System

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