Bi4Ti3O12铁电薄膜X射线光电子能谱研究

人工晶体学报 ›› 2000, Vol. 29 ›› Issue (2): 168-170.

Bi4Ti3O12铁电薄膜X射线光电子能谱研究

张寅;王弘;尚淑霞;王少伟;王民;齐尚奎;刘希玲

山东教育学院,济南,250013;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;中国科学院兰州化学物理研究所,国家重点实验室,兰州,730000;山东教育学院,济南,250013

出版日期:2000-02-15 发布日期:2021-01-20
基金资助:
教育部科学技术研究项目(Y98A15018);国家重点实验室基金

Study on Bi4Ti3O12 Ferroelectric Thin Film Structure with XPS Spectra

ZHANG Yin;WANG Hong;SHANG Shu-xia;WANG Shao-wei;WANG Min;QI Shang-kui;LIU Xi-ling

Online:2000-02-15 Published:2021-01-20

摘要/Abstract

摘要： 本文采用化学溶液沉积(CSD)工艺在Si(100)衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜,这种薄膜的X射线衍射(XRD)结果显示其具有较好的结晶性.运用X射线光电能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了研究,分析结果表明,衬底中Si向镀在其上的Bi4Ti3O12膜层内扩散,影响扩散的主要因素是膜厚及退火温度.

中图分类号:

O484.42
O738

张寅;王弘;尚淑霞;王少伟;王民;齐尚奎;刘希玲. Bi4Ti3O12铁电薄膜X射线光电子能谱研究[J]. 人工晶体学报, 2000, 29(2): 168-170.

ZHANG Yin;WANG Hong;SHANG Shu-xia;WANG Shao-wei;WANG Min;QI Shang-kui;LIU Xi-ling. Study on Bi4Ti3O12 Ferroelectric Thin Film Structure with XPS Spectra[J]. JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS, 2000, 29(2): 168-170.